您的位置： 专家智库 > >

信觉俗

作品数：3 被引量：16H指数：3
供职机构：东北大学更多>>
发文基金：辽宁省自然科学基金更多>>
相关领域：化学工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇镀膜
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇导体
  • 1篇镀铬
  • 1篇塑料
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷涂层
  • 1篇涂层
  • 1篇离子
  • 1篇离子镀
  • 1篇离子对
  • 1篇附着性
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇TIO
  • 1篇ABS
  • 1篇ABS塑料
  • 1篇沉积速率

机构

  • 3篇东北大学
  • 1篇沈阳真空技术...

作者

  • 3篇信觉俗
  • 1篇孙旭
  • 1篇单五桥

传媒

  • 2篇表面技术
  • 1篇真空

年份

  • 1篇1999
  • 1篇1994
  • 1篇1990
共 3 条 记 录，以下是 1-3
全选 清除 导出
排序方式：
离子对PVD法陶瓷涂层附着性的作用被引量：5
1994年
介绍采用增加离化率、离子注入、离子照射作为辅助手段,改变界面组成与结构,以提高PVD法制备的陶瓷涂层(薄膜)附着性,并阐明了改善涂层附着性的机理。
信觉俗
关键词：陶瓷涂层附着性离子镀镀膜
间断充氧提高TiO_2膜沉积速率的研究被引量：7
1999年
用直流反应磁控溅射法,进行了连续充氧和不同周期间断充氧方式在玻璃基片上沉积TuO_2膜的实验。用得到的最佳间断充氧条件,TiO_2膜沉积速率是连续充氧条件的1.8倍。TiO_2膜组分、深度分布及理化性能与连续充氧无明显区别。
信觉俗单五桥
关键词：磁控溅射沉积速率镀膜半导体薄膜
ABS塑料溅射镀铬被引量：4
1990年
在ＡＢＳ塑料上溅射沉积铬或铬合金膜，是汽车外部装饰部件光亮处理技术。本 文简单介绍这一技术的发展情况。结合作过的一部分工作谈了工艺参数对铬膜性能的影 响。最后指出一些当前存在的技术问题。
信觉俗孙旭
关键词：磁控溅射ABS镀铬塑料
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0