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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛薄膜
  • 1篇镀膜
  • 1篇离子镀
  • 1篇离子镀膜
  • 1篇TIN膜

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇刘技文
  • 1篇于力
  • 1篇金柱京
  • 1篇王慧君
  • 1篇赵杰

传媒

  • 1篇金属学报

年份

  • 1篇1996
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
基材温度对离子镀TiN膜性能的影响被引量:12
1996年
利用空心阴极离子镀膜设备制备了不同基材加热温度(150,250,350和450℃)的TiN膜.对其硬度和耐磨性的检测结果表明,随着基材温度的升高,HV呈缓慢上升趋势;耐磨性基本一致.同时,通过X射线衍射及扫描电子显微镜的观察,探讨了基材温度对其性能及组织形貌的影响.
于力刘技文赵杰戴少侠金柱京王慧君
关键词:离子镀膜氮化钛薄膜镀膜
共1页<1>
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