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吴志勇

作品数：2 被引量：4H指数：1
供职机构：南京工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金：陕西省普通高等学校重点学科专项资金建设项目陕西省科学技术研究发展计划项目更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇隔离层
  • 2篇高纯
  • 1篇氧含量
  • 1篇级配

机构

  • 2篇南京工业大学
  • 2篇东海晶澳太阳...
  • 1篇西安交通大学

作者

  • 2篇尹长浩
  • 2篇黄新明
  • 2篇吴志勇
  • 2篇王梓旭
  • 1篇董慧
  • 1篇钟根香

传媒

  • 2篇硅酸盐通报

年份

  • 2篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
高效多晶硅中石英坩埚内高纯隔离层的致密化处理
2015年
多晶硅铸锭过程中,在石英坩埚内壁制作高纯隔离层可以阻挡石英坩埚中的杂质向硅锭中扩散,改善硅方的边部红区,但高纯隔离层会引起硅锭中氧含量的升高。本文在高纯隔离层的基础上,通过级配的方法提升高纯隔离层结构的致密性并降低硅锭中的氧含量。
王梓旭尹长浩吴志勇吴志勇钟根香黄新明
关键词：多晶硅隔离层级配氧含量
石英坩埚内高纯隔离层在高效多晶硅铸锭中的应用被引量：4
2015年
多晶硅铸锭过程中,石英坩埚侧壁中的杂质通过固相扩散进入并残留在多晶硅锭的边部,形成多晶硅锭边部的低少子寿命区(边部红区)。本文通过在坩埚侧壁上制作三种不同成分的高纯隔离层来阻挡坩埚侧壁中的杂质向硅锭中的扩散,以降低硅锭中的边部红区比例。结果表明采用掺钡高纯隔离层可以使硅锭中的边部红区显著变窄,基本消除硅方中的边部红区。
王梓旭尹长浩董慧吴志勇钟根香黄新明
关键词：隔离层
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