孙艳军
- 作品数：48 被引量：122H指数：8
- 供职机构：长春理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金吉林省自然科学基金中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
- 柱面微透镜阵列用于提高OLED图像质量的研究被引量：2
- 2012年
- 微透镜阵列用于OLED是改善其输出效率和图像质量的一种有效技术途径。本文将薄膜柱面微透镜阵列用于全彩色OLED平板显示器,研究视角与亮度和色坐标的关系,重点分析了微透镜阵列相对于子像素在不同排列形式下对图像质量指数的影响。研究结果表明,柱面微透镜阵列在提高OLED输出效率的同时,可以明显改善显示器图像的质量,并且,垂直排列时图像质量指数达到了0.8637,优于平行排列时的情况。
- 张凯华董连和孙艳军冷雁冰陈哲
- 关键词：OLED图像质量
- 八阶二元光学器件的光刻技术研究
- 本文介绍了二元光学的发展状况以及制作二元光学器件的主要方法，特别是对激光直写制作掩模、光刻和蚀刻成型技术进行了详细的分析与研究。
首先针对红外折/衍混合光学系统中八台阶二元光学器件以及光刻制作的特点，对光刻掩模...
- 孙艳军
- 关键词：二元光学器件光刻掩模控制方法
- 文献传递
- 蒸发速率对电子束蒸发法制备CdS薄膜性质影响被引量：1
- 2015年
- 采用电子束蒸发法,以高纯Cd S块料为膜料在玻璃基底上制备了Cd S薄膜。利用X射线衍射仪和原子力显微镜表征其晶体结构和表面形貌,用四探针电阻测试仪和紫外可见分光光度计分析其电学及光学特性。结果表明,蒸发速率对薄膜结构及特性有显著影响,其中在蒸发速率为10?S-1制备的Cd S薄膜均匀致密且其XRD衍射峰强度最大,薄膜的光电性能最好。这些Cd S薄膜的光敏性达到7.7×102,其中亮电阻的最小值为1350Ω/□。
- 陈哲董连和王丽孙艳军冷雁冰
- 关键词：CD电子束蒸发法光电性能
- 多光谱辐射测温系统的标定被引量：2
- 2019年
- 多光谱测温技术是测量高温物体的有效手段,而测温仪器的标定的重要性如同仪器制造本身,针对高温区的测温仪器精度更是依赖于准确的标定。基于多光谱测温理论的分光式测温系统,能够完成VNIR波段的光谱采集,以及CCD辅助对准的功能,但由于自制接收系统的波长选择性,需要对其进行标定。通过高温黑体炉提供标定温度,运行测温系统样机以整百度标定的方法取得辐射强度曲线,结合普朗克理论温度曲线得出系统响应函数,并在解算过程中将该响应函数用于修正所测得的所有温度点辐射曲线,拟合理论温度曲线,使测量结果更准确。
- 刘斯尧王劲松孙艳军黄国林贾强
- 关键词：多光谱测温高温测量
- 凸球面基底超声波喷雾涂胶的研究
- 2012年
- 针对大尺寸曲面元件涂布光刻胶难的问题,提出一种超声波喷雾涂胶法用于解决这一难题。以凸球面基底为例,阐述了超声波喷雾涂胶装置在凸球面基底上涂布光刻胶的过程并且给出了光刻胶膜厚和主要操作参数之间关系的数学模型。然后根据该数学模型来控制喷涂参数,在口径为100 mm,曲率半径为120 mm的凸球面基底上进行光刻胶膜厚为5μm的涂布实验。从实验结果可以得出超声波喷雾涂胶法对大尺寸凸球面基底的光刻胶涂布具有一定的借鉴作用。
- 雷国韬董连和孙艳军
- 关键词：光刻胶数学模型
- 二元光学器件光刻掩模的设计与制作被引量：2
- 2007年
- 针对红外折/衍混合光学系统中八台阶二元光学器件以及套刻制作的特点,采用相位转化的方法对光刻掩模进行了结构参数的优化设计。探讨了掩模制作的工艺过程,采用激光直写方法制作出三块不同参数的掩模。同时,对关键技术环节进行了研究,并对掩模制作误差进行了分析。
- 孙艳军陈宇曹子维何显宗
- 关键词：二元光学器件掩模激光直写
- 基于矩形微透镜阵列的红外焦平面集成技术研究被引量：2
- 2014年
- 微小型化是红外焦平面探测器发展的必然趋势,微小型化将使目前焦平面阵列存在的占空比小、光能利用率低的问题体现的更加明显,针对这一状况,提出一种利用分子间引力的光胶技术将矩形孔径球面微透镜阵列集成于红外焦平面之中。采用几何光学理论分析了微透镜阵列的聚能效应,设计并制作"栅线"和"方孔"双对准标记,采用衍射光栅同轴对准方法使两种器件的对准精度达到0.1μm。对集成前后红外焦平面阵列性能进行测试,发现响应率提高了近40%,探测率提高了约20%,红外焦平面的噪声从758.89μV下降到668.23μV。最终得到结论:光胶法用于两种器件的集成具有耐温性好、变形小、强度高等优点,集成后红外焦平面的探测性能显著提高,有利于探测器微小型化发展。
- 孙艳军陈哲冷雁冰董连和
- 关键词：红外焦平面微透镜阵列
- 1×11亚波长结构Dammann光栅的研制被引量：9
- 2014年
- 论文基于严格耦合波理论(Rigorous Coupled-Wave Analysis,RCWA),并采用遗传算法进行优化,设计并制作了一种具有高衍射效率的亚波长结构Dammann光栅。光栅的分束比为1×11,最小特征尺寸为0.95μm,衍射效率设计值达到95%,优于传统Dammann光栅约15%,且均匀性设计值小于2%。论文采用电子束光刻直写技术和反应离子刻蚀技术在石英基底上制作出亚波长结构图形。实验结果表明,电子束扫描曝光可以获得纳米级的图形分辨率。对石英基底的反应离子刻蚀中,射频功率、工作气压及气体流量均对刻蚀速率和栅线的表面形貌产生不同程度的影响,论文主要针对该问题进行了讨论。同时,论文也对电子束光刻直写过程中产生的线宽误差因素进行了分析。
- 冷雁冰董连和孙艳军
- 关键词：亚波长结构衍射效率均匀性
- 一种大功率激光切割光学系统焦点轴向位置的计算方法
- 本发明公开了一种大功率激光切割光学系统焦点轴向位置的计算方法，采用多物理场耦合仿真软件来计算仿真激光辐照下切割光学系统中光‑热‑应力场等多物理场耦合过程，获得中各面形点的坐标数据，将各面形点的坐标数据导入至光学设计软件，...
- 底才翔孙艳军王菲陈爔丁伟黄一芮田明罗宽
- 文献传递
- 利用截头圆锥形仿生蛾眼结构提高LED光提取效率被引量：9
- 2018年
- 为提高发光二极管(LED)光提取效率,根据等效介质理论在LED钝化层(SiNx)表面设计并制作了一种截头圆锥形微结构阵列。通过模拟重点分析了微结构的底面占空比、底面直径、高度和倾角对提高LED光提取效率的影响,得出微结构的底面占空比为0.55、底面半径为220nm、高度为245nm、侧面倾角为70°时器件的光提取效率最优,是无表面微结构器件的4.85倍。采用纳米球刻蚀技术在LED钝化层表面制备该亚波长纳米结构,并与无表面微结构的LED芯片进行电致发光对比测试。结果表明,制作有微结构的样品在20 mA和150 mA工作电流下的发光效率是无微结构参考样品的4.41倍和4.36倍,计算结果与实验结果比较一致,说明在LED钝化层制作该结构可有效提高光提取效率。
- 刘顺瑞王丽孙艳军王君王越吴天祺冷雁冰董连和
- 关键词：光学设计发光二极管纳米球光提取效率电致发光
