刘庭芝
- 作品数：34 被引量：43H指数：4
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- 发文基金：江西省自然科学基金国家自然科学基金江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学化学工程更多>>
- 化学水浴沉积ZnS薄膜时联氨的作用
- 采用化学水浴法在玻璃衬底上制备Zn S薄膜。为了解联氨沉积作用,用金相显微镜、XRD、nkd-薄膜分析系统对薄膜形貌、结构和光学性能进行分析。结果表明:随着联氨浓度的增加,衬底表面形核活化点
- 刘庭芝多树旺张萌向军淮李文魁张荣发胡长员
- 关键词：玻璃衬底ZNS氨浓度
- 文献传递
- 化学溶池法制备CuInGaSe2太阳能电池缓冲层ZnS薄膜的研究进展
- ZnS无毒、来源丰富、价格低廉、禁带宽度大,可提高电池的蓝光光谱响应、开路电压和短路电路,减小电子亲和势,电池转换效率高等。这些优点使其成为近年来CuInGaSe2太阳能电池缓冲层的研究热点之一。本文综述了化学溶池法(C...
- 刘庭芝多树旺张荣发杨干兰黄隆周泽华
- 关键词：缓冲层太阳能电池
- 文献传递
- 联氨浓度对化学溶池沉积ZnS薄膜的影响被引量：1
- 2009年
- 采用化学溶池沉积法在玻璃衬底上制备ZnS薄膜。为了解联氨在沉积过程中的作用,采用金相显微镜、XRD、nkd-薄膜分析系统对薄膜形貌、结构和光学性能进行分析。结果表明:随着联氨浓度的增加,衬底表面形核点数目增加,分布均匀,薄膜颗粒得到细化。结合Zn2+的络合前驱体、络合常数及其三元络合常数计算、氢键及空间位阻等方面的分析,认为会出现3种不同的络合前驱离子,分别为Zn(NH3)24+、Zn(NH3)x(N2H4)2y+、2+Zn(NH3)3。这些Zn2+的前驱体影响着衬底形核点的数目、分布与薄膜的均匀性。在适当条件下,联氨不再起辅助沉积的作用,而是与氨一起形成三元络合配位体系,共同参与沉积。通过改变联氨浓度,可以制备出在550～1000nm的波长范围内透过率达95%以上、反射率与透过率相对应、均匀平整的非晶薄膜。
- 刘庭芝多树旺张萌向军淮张荣发胡长员朱世峰
- 关键词：ZNS薄膜
- pH值的变化对ZnS薄膜光学性质的影响
- 2011年
- 采用化学水浴法(CBD)制备ZnS薄膜,用NKD-7000v薄膜分析系统测试薄膜的透过率和反射率,拟合出薄膜厚度和吸收系数。研究了制备过程中不同的pH值调节剂对薄膜光学性质的影响。结果表明:加入pH值调节剂使薄膜禁带宽度增加,可达3.95eV,即对薄膜颗粒有细化作用。比较透过率和反射率,表明加NaOH把pH值控制在11和加NH_3把pH值控制在10.9时溶液沉积环境基本相似,反之亦然。但是加入氨水更有利于薄膜沉积速率的提高,且当pH值为11时加入调节剂,可以提升溶液进入亚稳态的pH值。
- 徐鹏刘庭芝多树旺郭岚
- 关键词：ZNS薄膜透过率禁带宽度
- 植酸对镁合金微弧氧化膜性能影响被引量：3
- 2007年
- 在18g／L的碱性硅酸钠溶液中，加入7．5gm的环保无毒植酸，研究它对镁合金氧化膜表面形貌、成分、颜色、厚度以及耐蚀性影响。加入植酸后，氧化膜孔的直径范围由1～5μm增加到1～8μm，但氧化膜表面单位面积孔的个数由0.05个／μm^2减少到0．02个／μm^2。植酸参与氧化膜的形成过程，并使氧化膜颜色随着植酸加入量的增加逐渐加深。植酸使氧化膜的厚度由11gm增加到16μm。浸泡实验表明，植酸可进一步提高氧化膜耐蚀性，产生第一个腐蚀点时间由24h延长到50h。
- 张荣发王方圆娄瑾白凌云张淑娟周泽华杨干兰刘庭芝张淑芳
- 关键词：镁合金氧化膜电解质植酸
- 共生沉积法制备自润滑铝阳极氧化复合膜
- 利用平均粒径1．07μm 的 MoS微粒,在草酸溶液中用共生沉积法制备出自润滑阳极氧化铝复合材料．首次实验结果表明 MoS微粒进入阳极氧化膜的数量极少,主要是因为草酸阳极氧化膜微孔较小而 MoS 粒径偏大．第二次实验,用...
- 向军淮杜爱林李文魁刘庭芝杨干兰
- 文献传递
- 溶胶-凝胶法制备的SiO2涂层抗原子氧侵蚀性能研究
- 以正硅酸乙酯（TEOS）为原料,在乙醇共溶剂和盐酸催化剂条件下,采用溶胶-凝胶方法制备 SiO胶体溶液,通过旋涂法在 Kapton 基体上制备了 SiO薄膜．采用自己研制的空间综合环境地面模拟设备对试样进行了原子氧暴露实...
- 多树旺李美栓刘庭芝
- 关键词：溶胶-凝胶法原子氧SIO2
- 文献传递
- 铝含量及基体脉冲偏压对非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层结构和硬度的影响
- 本文利用非对称双极脉冲磁控溅射技术,双极分别接纯铬靶和纯铝靶,通过调整两靶的功率,以反应溅射的方式沉积不同铬铝比的氮化铬铝涂层。研究了两靶的功率比及基体脉冲偏压对涂层成分、结构及硬
- 张淑娟娄瑾刘庭芝多数旺李明升
- 关键词：铝涂层氮化铬铝含量
- 文献传递
- 溶胶-凝胶法制备的SiO2涂层抗原子氧侵蚀性能研穷
- 2007年
- 以正硅酸乙酯（TEOS）为原料，在乙醇共溶剂和盐酸催化剂条件下，采用溶胶-凝胶方法制备SiO2胶体溶液，通过旋涂法在Kapton基体上制备了SiO2薄膜。采用自己研制的空间综合环境地面模拟设备对试样进行了原子氧暴露实验，测试表明溶胶-凝胶制备的SiO2涂层抗原子氧侵蚀性能优异，抗原子氧侵蚀性能比聚酰亚胺基体提高了2个数量级以上。经FTIR和XPS分析表明在原子氧暴露后涂层表面生成了一层SiO2，它阻止了原子氧对基体材料的进一步侵蚀。涂覆涂层后基体的光学性能没有受到影响。实验证明溶胶-凝胶制备抗原子氧侵蚀的防护涂层是一种行之有效的方法。
- 多树旺李美栓刘庭芝
- 关键词：溶胶-凝胶法原子氧SIO2
- 反应磁控溅射制备的SiO2防护涂层抗原子氧侵蚀性能研究
- 2007年
- 在原子氧侵蚀地面模拟设备中对Kapton和利用反应磁控溅射制备的SiO2涂层进行了原子氧暴露实验，并采用XPS和SEM等分析手段对暴露前后试样表面的物理和化学变化进行了研究．结果表明，Kapton试样遭受了严重的侵蚀，质量损失较大；SiO2涂层质量变化很小，对基体提供了良好的保护作用．XPS分析结果表明，反应溅射的SiO2涂层是富Si的，初始暴露时由于氧化反应而质量有少许增加，随时间延长，涂层变得完全符合化学计量．SiO2涂层在原子氧暴露后涂层的太阳吸收率、辐射率和反射系数均没有发生明显的变化．SiO2涂层较脆，易产生裂纹，原子氧会通过缺陷位侵蚀下面的基体材料，严重影响飞行任务的正常进行。
- 多树旺李美栓刘庭芝
- 关键词：原子氧磁控溅射
