赵印中
- 作品数：56 被引量：116H指数：7
- 供职机构：兰州空间技术物理研究所更多>>
- 发文基金：表面工程技术国家级重点实验室基金国家自然科学基金国防科技重点实验室基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信航空宇航科学技术更多>>
- 锐钛矿型二氧化钛薄膜制备及其光催化性能研究被引量：14
- 2005年
- 在室温下采用直流磁控反应溅射法制备纳米TiO2薄膜,用XRD、XPS等手段对未退火及不同退火温度处理的薄膜进行了研究,以紫外灯为光源对亚甲基兰进行了光催化降解试验。结果表明:室温制备未退火的薄膜为非晶结构,400～500℃退火的薄膜为锐钛矿相结构。制备的锐钛矿型TiO2薄膜具有一定的光催化性能,在500℃退火2h且厚度较大的薄膜光催化性能较好。
- 赵琳邱家稳何延春王洁冰许旻赵印中
- 关键词：磁控溅射TIO2退火光催化
- VO_2薄膜制备及电学性能被引量：9
- 2001年
- 用溶胶 -凝胶法制备VO2 薄膜。通过熔融、涂膜、烘干和热处理等工艺实验 ,在非晶玻璃上得到电阻变化 2～ 3个量级的VO2 薄膜。对烘干温度、熔融温度、膜厚和热处理温度对薄膜电学性能的影响进行了初步研究。通过XRD和XPS对薄膜的特性和价态进行了分析。
- 许旻邱家稳赵印中王洁冰何延春李强勇
- 关键词：电阻特性二氧化钒电学性能溶胶-凝胶法
- SiO_2热控涂层的制备被引量：2
- 2003年
- 用离子束溅射工艺在石英、LY12和卫星蒙皮材料上制备了不同厚度和发射率的SiO2薄膜,研究了厚度对薄膜光学、热学性能的影响规律。用直流磁控溅射工艺制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了厚度对薄膜光学、电学性能的影响规律。利用前两部分研究成果在LY12和卫星蒙皮材料上制备成功了发射率可达0.45、光谱反射率大于0.7、同时电性能满足空间抗静电要求的复合热控薄膜。
- 王洁冰许旻李强勇邱家稳赵印中何延春
- 关键词：SIO2热控涂层氧化铟锡薄膜镀膜二氧化硅
- 一种太阳帆航天器姿态控制方法
- 本发明公开了一种太阳帆航天器姿态控制方法。使用本发明能够实现对航天器的姿态控制。本发明在航天器的太阳帆上表面的外边缘区域粘贴可变反射率柔性薄膜器件，通过控制可变反射率柔性薄膜器件的电压，从而改变可变反射率柔性薄膜器件的反...
- 左华平冯煜东王虎王志民杨淼许旻吴春华王洁冰赵印中李林
- 文献传递
- 一种钙钛矿结构薄膜材料复数光学常数的反演
- 为了获得一种钙钛矿结构镧锶锰氧La0.8Sr0.2MnO3薄膜材料的复数光学常数，利用光学薄膜原理和数学优化方法，并基于钙钛矿结构材料的色散模型，对磁控溅射技术制备的不同厚度的镧锶锰氧薄膜在波数400～1250cm-1范...
- 吴春华邱家稳许旻张佰森王洁冰李林赵印中左华平
- 关键词：LA0.8SR0.2MNO3光学常数数学优化
- 一种漆膜表面防静电的方法
- 本发明提供一种漆膜表面防静电的方法，具体过程为：第一步，采用离子源对漆膜表面进行清洗，清洗时间控制在1min～10min之间；第二步，在漆膜表面镀制透明导电薄膜；所述镀制为：采用不同溅射速率分三次在漆膜表面进行透明导电薄...
- 李林许旻王洁冰赵印中吴春华左华平
- 文献传递
- 一种增强漆膜抗原子氧侵蚀的方法
- 本发明提供一种增强漆膜抗原子氧侵蚀的方法，具体过程为：第一步，采用离子源对漆膜表面进行清洗，清洗时间控制在1min～10min之间；第二步，在漆膜表面镀制透明氧化物薄膜；所述镀制为：采用不同溅射速率分三次在漆膜表面进行透...
- 李林许旻王洁冰赵印中吴春华左华平
- 文献传递
- 掺杂氧化物半导体在复合隐身方面的研究进展被引量：5
- 2009年
- 从掺杂氧化物半导体材料的隐身理论、复合隐身研究方向以及研究进展等方面,介绍了掺杂氧化物半导体在隐身材料方面的研究现状。
- 赵印中许旻李林王洁冰吴春华何延春
- 二氧化钒薄膜微结构和光学相变特性
- 二氧化钒薄膜是最有前途材料应用到非制冷红外微测热辐射计。它的特性与制备方法、化学计量比、结构和取向等有直接关系,仔细控制工艺参数是制备应用的 VO薄膜关键。本项研究中采用脉冲磁控反应溅射方法,通过精确地控制功率、氧分压、...
- 许旻王洁冰赵印中何延春吴春华邱家稳
- 关键词：微结构光学特性
- 文献传递
- 电致变色NiO薄膜的制备及性能
- NiO 薄膜是一种典型的阳极电致变色材料,它不仅可作为电致变色器件的变色层,还可以作为对电极层与 WO薄膜等阴极变色材料一起构成互补型电致变色器件。本文采用直流磁控反应溅射的方法制备了 NiO 薄膜,并对其电致变色性能进...
- 何延春邱家稳许旻王洁冰吴春华赵印中
- 关键词：电致变色溅射功率NIO
